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反应离子刻蚀机

仪器型号：Etchlab 200

制造厂商：德国SENTECH instruments GmbH

仪器类别：光电子行业>光学光电仪器>光学分析仪器

拥有数量：3台

反应离子刻蚀是一种半导体生产加工工艺，它利用由等离子体强化后的反应离子气体轰击目标材料，来达到刻蚀的目的。气体在低压（真空）环境下由电磁场产生，等离子体中的高能离子轰击芯片表面并与之反应。反应离子刻蚀机属于干法刻蚀设备。

双面对准曝光机

仪器型号：ABM/6/350/NUV/DCCD/BSV/M

制造厂商：美国ABM，Inc

仪器类别：光电子行业>光学光电仪器>光学分析仪器

拥有数量：6台

双面对准曝光机可以实现各种非标准基片曝光、复杂微纳图案、正反双面曝光、制备微电子器件、多层硅通孔器件、柔性电子器件、MEMS器件。

超声原子力模量成像分析仪

仪器型号：AFAM

制造厂商：NT-MDT Co. 俄罗斯

仪器类别：光电子行业>光学光电仪器>显微镜

拥有数量：3台

超声原子力显微镜（AFAM）将超声检测技术与原子力显微技术相结合，构成超声原子力显微镜，该技术能够实现样品内部纳米结构的测量，并分析如局域弹性模量、刚度等力学性能，与常规原子力显微镜相比，成像分辨率更好，速度更快。

数字全息显微镜

仪器型号：DHM-R1003

制造厂商：瑞士Lyncee Tec

仪器类别：光电子行业>光学光电仪器>显微镜

拥有数量：3台

数字全息显微镜对三维形貌实时非接触测量，材料大面积表面形貌快速测量，微小零部件动态性能测试。使用数字全息原理，使该仪器具有非接触，对环境光的干扰不敏感，对振动不敏感，测量时无需对焦等特点。

广义椭偏仪

仪器型号：RC2

制造厂商：美国J.A.WOOLLAM公司

仪器类别：仪器仪表>实验仪器>应变测量仪器

拥有数量：1台

我国第一台宽光谱广义椭偏仪，具有完全自主知识产权。主要用于纳米制造、纳米材料学、纳米生物学等领域内各种功能材料和体材料的光学性质以及结构特性分析。

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